Am Lehrstuhl IES werden Verfahren zur schnellen Inspektion und Vermessung von Oberflächen entwickelt. Eine Oberfläche lässt sich als Modulator des inzidenten Strahlungsfeldes beschreiben. Die Systemantwort der Oberfläche wird mit einer Kamera gemessen. Aus diesen Signalen und der Kenntnis der inzidenten Strahlungsmuster lassen sich Informationen über das untersuchte Objekt gewinnen. Gängige Verfahren benutzen Serien regelmäßiger Beleuchtungsmuster und bestimmen aus deren durch das Objekt modulierten Bildern relevante Oberflächeneigenschaften.

Mittels Oberflächenmodell lassen sich vorab inverse Muster generieren. Diese Muster stellen Objekthypothesen dar, deren jetzt einfache und schnelle Überprüfung bisherige Verfahren zur Bildserienauswertung ersetzen kann.

Aufgabenstellung:
Im Rahmen der Arbeit soll beispielhaft die Generierung und Auswertung inverser Muster mit Hilfe von Simulationen gezeigt werden. Insbesondere ist eine Genauigkeitsanalyse eines solchen Verfahrens von Interesse.

Voraussetzungen:
Kenntnisse im Bereich Bildverarbeitung, insbesondere 3D-Vision sind wünschenswert.

Über die Ergebnisse der Arbeit ist in einem Vortrag im Rahmen des Seminars am Lehrstuhl für Interaktive Echtzeitsysteme zu berichten.

Literatur: W. Li et al.: Object adapted pattern projection—Part I: generation of inverse patterns, Optics and Lasers in Engineering 41 (2004) 31–50

Arbeitsausrichtung: theoretisch, algorithmisch